Dirigeant TitreAgeDepuis
Directeur Général 66 -
Directeur Général - -
Directeur Financier/CFO 56 -
Administrateur TitreAgeDepuis
Directeur/Membre du Conseil 62 16/02/2016
Directeur/Membre du Conseil 62 24/03/2017
Varia. Varia. 5j. Varia. 1an Varia. 3ans Capi.($)
-2,45%+2,52% - - 3,04 Md
+0,80%-3,08%+12,64%+44,14% 243 Md
+1,24%-4,67%+1,85%+3,28% 65,88 Md
-19,14%-10,95%+907,16%+608,58% 28,33 Md
-1,25%-3,24%+10,42%+97,79% 16,39 Md
-14,34%-6,14%+336,87% - 9,88 Md
-7,37%-7,37%+140,90%+170,98% 8,15 Md
+0,69%-1,97%+4,15%+63,78% 6,25 Md
+1,01%-1,15%+23,54%+128,95% 6,17 Md
-14,83%-13,59%+287,42%+151,93% 4,21 Md
Moyenne -5,56%-3,62%+191,66%+158,68% 43,14 Md
Moyenne pondérée par Capi. -1,40%-3,81%+89,93%+87,25%
Logo SK Materials Co., Ltd.
SK Materials Co Ltd, anciennement OCI Materials Co Ltd, est une société basée en Corée qui fabrique et vend des gaz spéciaux et des gaz industriels. La société est engagée dans la fabrication de gaz spéciaux utilisés dans le processus de fabrication de semi-conducteurs et de panneaux d'affichage, et dans la fabrication de gaz industriels qui produisent de l'oxygène, de l'azote, de l'argon et du dioxyde de carbone. L'entreprise produit principalement du trifluorure d'azote (NF3), qui est injecté pour éliminer tout résidu sur les parois internes de la chambre de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ; du silane (SiH4), qui est utilisé pour déposer du silicium sur les plaquettes de semi-conducteurs et pour déposer du silicium sur les TFT par-dessus les substrats de verre pour les TFT-LCD ; l'hexafluorure de tungstène (WF6), qui sert à fabriquer des fiches de contact pendant le processus de dépôt en phase vapeur, ainsi que le dichlorosilane (DCS), qui est un gaz précurseur du silicium utilisé en combinaison avec l'ammoniac pour le dépôt en phase vapeur de SiH4 et pour le dépôt de silicium épitaxial.
Employés
822
  1. Bourse
  2. Actions
  3. Action A036490