Veeco Instruments Inc. annonce ses résultats pour le troisième trimestre et les neuf mois terminés le 30 septembre 2021
Le 02 novembre 2021 à 21:05
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Veeco Instruments Inc. a publié ses résultats pour le troisième trimestre et les neuf mois clos le 30 septembre 2021. Pour le troisième trimestre, la société a déclaré un chiffre d'affaires de 150,25 millions USD, contre 112,08 millions USD un an plus tôt. Le bénéfice net s'est élevé à 8,99 millions USD, contre 0,58 million USD un an plus tôt. Le bénéfice de base par action des activités poursuivies s'élève à 0,18 USD, contre 0,01 USD l'année précédente. Le bénéfice dilué par action provenant des activités poursuivies s'est élevé à 0,17 USD, contre 0,01 USD l'année précédente. Pour les neuf mois, le chiffre d'affaires s'est élevé à 430,31 millions de dollars, contre 315,22 millions de dollars l'année précédente. Le bénéfice net s'est élevé à 17,84 millions de dollars, contre une perte nette de 8,29 millions de dollars l'année précédente. Le bénéfice de base par action des activités poursuivies s'élève à 0,36 USD, contre une perte de base par action des activités poursuivies de 0,17 USD l'année précédente. Le bénéfice dilué par action des activités poursuivies s'est élevé à 0,33 USD, contre une perte diluée par action des activités poursuivies de 0,17 USD l'année précédente.
Veeco Instruments Inc. est un fabricant d'équipements de traitement des semi-conducteurs. Les technologies de recuit laser, de faisceau d'ions, de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), de dépôt chimique organique en phase vapeur (MOCVD), de gravure et de nettoyage de plaquettes uniques et de lithographie jouent un rôle essentiel dans la fabrication et l'emballage de dispositifs semi-conducteurs avancés. Les produits de la société comprennent les systèmes de recuit au laser, les systèmes à faisceaux d'ions et les systèmes de gravure, la lithographie d'emballage avancée, le traitement humide d'une seule plaquette, les systèmes de dépôt chimique en phase vapeur métal-organique, les systèmes d'épitaxie par faisceaux moléculaires, les systèmes de dépôt par couches atomiques et d'autres systèmes. Ses autres systèmes de dépôt comprennent le dépôt physique en phase vapeur, le dépôt de carbone en forme de diamant et les systèmes de dépôt chimique en phase vapeur. Ses systèmes d'équipement de traitement sont utilisés dans la production d'une gamme de composants microélectroniques, y compris la logique, la mémoire dynamique à accès aléatoire (DRAM), les dispositifs photoniques, l'électronique de puissance et d'autres dispositifs à semi-conducteurs.
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