Soitec a annoncé mardi avoir franchi une 'étape majeure' dans le programme de développement stratégique qu'il a lancé avec le fabricant de semi-conducteurs japonais Sumitomo Electric.

Les deux partenaires comptent lancer des lignes de production pilotes pour permettre l'adoption à grande échelle de leur technologie de substrats avancés de nitrure de gallium (GaN) en quatre et six pouces.

Ces substrats - obtenus en transférant des couches de GaN ultra-minces de haute qualité à partir d'une seule plaque de GaN - conviennent idéalement à la fabrication de diodes LED avancées haute luminosité.

Ces produits sont destinés au marché de l'éclairage et des contrôleurs de forte puissance pour les secteurs de l'énergie et des véhicules électriques.

Dans le détail, Soitec et Sumitomo ont l'intention d'investir dans la création de lignes de production pilotes à Bernin (France) et à Itami (Japon).

Ces lignes pilotes seront initialement utilisées pour produire des plaques de quatre pouces, avant l'introduction de plaques de six pouces pour répondre aux attentes des clients.

Sumitomo Electric fabriquera au Japon des substrats en GaN massif qui seront envoyés en France où Soitec appliquera son procédé de transfert de couches Smart Cut afin de fabriquer les plaques avancées finies.

Copyright (c) 2012 CercleFinance.com. Tous droits réservés.