ACM Research, Inc. reçoit un bon de commande pour l'outil Saps de la part d'un important fabricant européen de semi-conducteurs.

ACM Research, Inc. développe, fabrique et vend des équipements de traitement des semi-conducteurs pour le nettoyage humide d'une seule plaquette ou d'un lot, l'électrodéposition, le polissage et les processus thermiques qui sont essentiels à la fabrication de dispositifs semi-conducteurs avancés, ainsi qu'à l'emballage au niveau des plaquettes de silicium. La société propose deux modèles principaux d'équipements de nettoyage humide des wafers basés sur sa technologie SAPS (Space Alternated Phase Shift), Ultra C SAPS II et Ultra C SAPS V. Elle a également développé la technologie TEBO (Timely Energized Bubble Oscillation) pour le nettoyage humide des wafers lors de la fabrication de wafers 2D et 3D avec des caractéristiques de taille fine. Elle a conçu ces outils pour la fabrication de puces de fonderie, logiques et de mémoire, y compris les mémoires dynamiques à accès aléatoire (DRAM), les puces de mémoire flash NAND 3D et les puces semi-conductrices composées. La société développe, fabrique et vend également une gamme d'outils d'emballage avancés aux clients des secteurs de l'assemblage et de l'emballage de plaquettes de silicium.