19 mai (Reuters) - Applied Materials, le numéro un mondial des équipements pour semi-conducteurs, a publié jeudi des résultats trimestriels en baisse mais meilleurs que prévu, bénéficiant d'une demande soutenue de puces pour smartphones.

Le titre du groupe, dont les prévisions pour le trimestre en cours sont également supérieures aux attentes, gagnait près de 8% dans les transactions électroniques à Wall Street.

Les résultats d'Applied Materials sont considérés comme un bon indicateur de la santé du secteur des semi-conducteurs.

Le groupe californien a fait état d'un bénéfice net de 320 millions de dollars (286 millions d'euros) pour son deuxième trimestre clos le 1er mai, soit 29 cents par action, contre 364 millions (29 cents/action) un an plus tôt.

Hors éléments exceptionnels, le bénéfice par action ressort à 34 cents, deux de plus que le consensus établi par Thomson Reuters I/B/E/S.

Le chiffre d'affaires est resté stable à 2,45 milliards de dollars alors que les analystes prévoyaient en moyenne un léger tassement à 2,43 milliards.

Applied Materials bénéficie d'une forte demande pour les technologies servant à la fabrication de mémoires Nand 3D, qui peuvent conserver davantage de données et sont utilisées dans les smartphones et les disques durs SSD (solid-state drives).

Pour son troisième trimestre en cours, le groupe prévoit un bénéfice par action ajusté de 46-50 cents et un chiffre d'affaires en croissance de 14 à 18% par rapport au deuxième trimestre. L'estimation moyenne des analystes était de 36 cents pour le BPA selon Thomson Reuters I/B/E/S.

Au deuxième trimestre, les commandes ont augmenté de 37% à 3,45 milliards de dollars.

"Nous avons enregistré un montant de commandes sans précédent depuis 15 ans et nous prévoyons de délivrer des résultats records sur l'exercice 2016", déclare le directeur général Gary Dickerson dans le communiqué de résultats.

L'action gagnait 7,7% à 21,45 dollars dans les échanges d'après-Bourse à Wall Street, en route pour sa meilleure séance en trois mois. (Rishika Sadam à Bangalore, Véronique Tison pour le service français)