ACM Research, Inc. a annoncé qu'elle a élargi sa plateforme de traitement à sec du four Ultra Fn 300 mm avec l'introduction de son outil de four Ultra Fn A. Le système Ultra Fn A ajoute le dépôt de couche atomique thermique (ALD) à la liste étendue des applications de four prises en charge par ACM. La société a également annoncé qu'elle avait expédié le premier outil de four Ultra Fn A à un fabricant de fonderie de premier plan basé en Chine.

Le produit devrait être qualifié en 2023. À propos de l'outil de four Ultra Fn A d'ACM : Le nouvel outil ALD thermique d'ACM dépose à la fois des films de nitrure de silicium (SiN) et de nitrure de carbure de silicium (SiCN). L'outil Ultra Fn A initial devrait être utilisé pour fabriquer la couche d'espacement de la paroi latérale dans un flux de fabrication logique de 28nm, un processus qui exige un taux de gravure très bas et une bonne couverture des étapes. L'outil de four Ultra Fn A d'ACM, doté d'une technologie propriétaire, a permis d'améliorer l'uniformité dans les simulations par rapport aux approches concurrentes.

L'outil de four Ultra Fn A d'ACM s'appuie sur le succès de la plateforme de four Ultra Fn d'ACM, qui répond aux défis du traitement à sec du LPCVD, de l'oxydation, du recuit sous ultravide pour alliage, de la haute température et d'autres procédés de four courants. L'outil de four Ultra Fn A a été conçu dès le départ pour répondre aux meilleures exigences de sa catégorie en matière de traitement ALD par lots à haut débit. Il peut être facilement personnalisé en modifiant légèrement les composants et la disposition, ce qui a contribué à accélérer le développement de nouveaux types de procédés ALD.

Sa conception innovante associe également la technologie logicielle éprouvée d'ACM à un nouveau matériel qui améliore la durabilité et la fiabilité, ainsi qu'à la propriété intellectuelle de contrôle de processus d'ACM pour fournir un contrôle de processus rapide et stable.