ASML a atteint la "première lumière" sur son nouveau système de lithographie EUV High NA, a confirmé mercredi le fabricant néerlandais d'équipements pour semi-conducteurs, ce qui signifie que l'outil fonctionne, mais pas à pleine capacité.
Ann Kelleher, responsable du développement technologique chez Intel, a mentionné pour la première fois ces progrès lors d'un exposé à la conférence SPIE sur la lithographie qui s'est tenue mardi à San Jose.
ASML a confirmé que les remarques de Mme Kelleher étaient exactes.
Accéder à l'article original.
Contactez-nous pour toute demande de correctionAvertissement légal
Ajouter à une liste 0 sélectionné |
Cours
|
Varia.
|
Varia. 5j.
|
Capi.
| |
|---|---|---|---|---|---|
| 36,16 EUR | -1,63% | +1,52% | 6,6 Md | ||
| 840,7 EUR | -1,44% | -1,58% | 362 Md | ||
| 31,05 USD | +1,77% | +1,21% | 130 Md | ||
